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網(wǎng)站首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體應(yīng)用 > 光刻晶圓

技術(shù)規(guī)格展示

制程		能力及精度
光刻膠涂布	旋涂	膠厚精度≤3% （適用于平面）
光刻膠涂布	噴涂	膠厚精度≤10% （適用于平面/凹凸面）
光刻		精度 2um 套準(zhǔn)精度：0.15um
顯影		精度2um 顯影均勻性<5%
蝕刻		尺寸散差 ±1um

產(chǎn)品詢盤